大阪本社06-6643-9996

最新情報

首页 >> 最新情報 >> レーザアニール装置
新着製品情報
2017-11-23
レーザアニール装置

深い活性化とダブルパルスプロセスにも対応した、高性能レーザアニール装置
適用例) IGBT裏面活性化

独自のダブルパルスプロセスを可能にした固体レーザと長波長レーザを搭載したハイブリットアニール装置です。 固体レーザの特徴である、高繰り返し高パルスエネルギ安定性、メンテナンスフリー、コンパクト設計を備え、半導体分野の次世代プロセスの開発を促進します。

前のページ:なし
次のページ:なし